Silicon nitride films by chemical vapor deposition in fluidized bed reactors at atmospheric pressure (AP/FBR-CVD)

J. Perez-Mariano, S. Borros, J. A. Picas, A. Forn, Carles Colominas

Producción científica: Artículo en revista indizadaArtículorevisión exhaustiva

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Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Silicon nitride films by chemical vapor deposition in fluidized bed reactors at atmospheric pressure (AP/FBR-CVD)'. En conjunto forman una huella única.

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